PRODUCT CLASSIFICATION
產(chǎn)品分類(lèi)技術(shù)文章/ Technical Articles
日本武藏野musashino精密拋光裝置MA-150用于半導(dǎo)體、玻璃、光學(xué)等材料加工
我們的精密拋光系統(tǒng)是一種稱(chēng)為金剛石研磨的新方法。
磨床和研磨機(jī)(拋光機(jī))采用適合使用金剛石磨粒進(jìn)行精密拋光的復(fù)合材料。
拋光盤(pán)熱變形小,拋光時(shí)能保持平整度,因此可以將不同硬度的樣品拋光平整,達(dá)到平整度小于λ/10、表面粗糙度小于0.01μm的光潔度。
由于拋光盤(pán)易于加工,任何人都可以通過(guò)在拋光裝置上安裝附件來(lái)保持和校正平整度并具有可重復(fù)性。該操作使得可以消除板上的表面擺動(dòng)。該附件只能安裝在e型(MA-200e、MA-300e、MA-400e)精密拋光設(shè)備上。
拋光設(shè)備的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)保證了高精度,并經(jīng)過(guò)精加工使表面擺動(dòng)保持在5μm以?xún)?nèi)。
加工材料示例
半導(dǎo)體材料(硅(Si)、鍺(Ge)、碳化硅(SiC)、硅化鍶(SrSi2)、砷化鎵(GaAs)、砷化銦鎵(InGaAs)、磷化銦(InP)、氧化銦鎵鋅(InGaZnO) ))、氮化鎵(GaN)、氧化鎵(Ga2O3)、碲化鎘(CdTe)等)
光學(xué)材料(石英玻璃(SiO2)、藍(lán)寶石(Al2O3)、螢石透鏡(CaF2)、尖晶石(MgAl2O4)、磷酸鹽玻璃(ZnO-SnO-P2O5)、硼酸鋰(Li2B4O7)、丙烯酸樹(shù)脂(PMMA)、CLBO(CsLiB6O10) ), YiG(Y3Fe5O12), GGG(Gd3Ga5O12)...等)
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